授权专利
一种自动曝光控制检测专用装置
公开(公告)号: CN217611106U
摘要附图:
标题: 一种自动曝光控制检测专用装置
专利类型: 实用新型
申请日: 2022-04-11
公开(公告)日: 2022-10-21
发明人: 李广民
当前申请(专利权)人: 首都医科大学附属北京潞河医院
IPC分类号: A61B6/00
法律状态/事件: 授权
技术功效语段: [0014]通过支架将铜板和铝板固定在X射线管组件一端下方的插槽内，避免胶带黏贴留下胶痕;通过铰链结构控制铜板或铝板是否放置在X射线路径空间上，减少多次拆卸的麻烦。
摘要: 本实用新型提供了一种自动曝光控制检测专用装置，包括基座、滑动插板、铜板模块和铝板模块;所述滑动插板内嵌安装在所述基座上，所述铜板模块和所述铝板模块通过铰链安装在所述基座上。本实用新型通过支架将铜板和铝板固定在X射线管组件一端下方的插槽内，避免胶带黏贴留下胶痕;通过铰链结构控制铜板或铝板是否放置在X射线路径空间上，减少多次拆卸的麻烦。
